日本のEUV ペリクル市場規模と動向

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日本のEUV ペリクル市場を動かしているのは何でしょうか。本記事では、国内需要を押し上げている要因と、市場を構成する製品タイプ・用途を整理します。

需要を押し上げている要因

日本におけるEUVペリクル需要の急増は、次世代ロジック半導体や高密度DRAMの国産化を目指す先端半導体製造産業の加速によって強力に牽引されています。特にラピダスをはじめとする国内ファウンドリ構想や大手微細化メーカーは、2ナノメートル以下の最先端プロセスの導入を進めており、露光工程での歩留まり向上に直結する高性能ペリクルが不可欠となっています。一方で、極めて高価なEUV露光装置の稼働効率を高め、製造コストを削減したいという強い経済的圧力に加え、環境負荷の少ない次世代材料の使用を求める厳格な国内化学物質規制への対応もメーカーに求められています。さらに技術面では、露光光源の高出力化に伴う耐熱性要求の高まりを受け、従来のポリシリコン系から超高耐熱性を有するカーボンナノチューブやグラフェン素材へのシフトが進んでおり、これが日本国内における製品スペックや調達基準を根本から再定義しています。

製品タイプ別の内訳

90% 以上の透過率
85% ~ 90% の透過率
80% ~ 85% の透過率
80% 以下の透過率

タイプごとの特徴

EUVペリクルは透過率に応じて用途が異なり、まず90%以上の高透過率を持つものは、主に最先端のロジック半導体やメモリデバイス向けの高NA(開口数)露光工程で使用され、光の損失を最小限に抑えて微細パターンの形成に貢献します。次に85%から90%の透過率帯域は、現在主流の低NA EUV露光装置に適しており、比較的コストと性能のバランスが求められる量産工程で利用されることが多く、欠陥制御とスループットの両立が重視されます。また80%から85%の透過率は、やや透過率を犠牲にしても耐久性や耐熱性を優先したい工程、例えば多層マスクを用いた反復露光や基板の洗浄頻度が高い環境で採用される傾向があります。最後に80%以下の低透過率ペリクルは、主に研究開発用途や試作段階、あるいは透過率よりもマスク保護機能や軽量性が優先される特殊なエッチング工程に限定的に使われ、実生産ラインでの採用は稀です。

用途別の内訳

半導体
プリント配線板
液晶パネル
その他

市場に関わる主要企業

Asahi Kasei
Mitsui Chemicals
Shin-Etsu
Toppan Photomasks Inc.
Micro Lithography, Inc.
Canatu
Micro Image
PKLT
Asahivalve
NEPCO
Samsung
S-Tech Corp.

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